簡易檢索 / 檢索結果

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    反應式離子束濺鍍法沉積之氧化銀(AgxO)薄膜熱穩定性探討
    • 光電工程研究所 /101/ 碩士
    • 研究生： 曾奕嵐   指導教授： 趙良君
    • 此實驗以反應式離子束濺鍍法成長氧化銀薄膜，採用毛細式離子源(6∼8 kV、100∼500 uA)及陽極層離子源 (0.7 kV、13.5 mA) ，同時通入氬氣及氧氣，氬氣為濺鍍氣體，氧氣為反應氣體…
    • 點閱：374  下載：0 
    • 全文公開日期 2018/06/20 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    以反應式離子束濺鍍法沉積氧化銀及其摻鋁之特性研究
    • 電子工程系 /104/ 碩士
    • 研究生： 張峻旗   指導教授： 趙良君
    • 本實驗使用反應式離子束濺鍍法沉積氧化銀，藉由調變不同離子束能量、沉積溫度及氧氣分壓(Opf)來沉積氧化銀薄膜，之後再將鋁摻入薄膜觀察其變化。XRD分析在陽極電壓700 V下沉積，在Opf = 100…
    • 點閱：319  下載：0 
    • 全文公開日期 2021/06/06 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)
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